小さな磁石で,微小な機器を動かす
厚膜磁石をマイクロアクチュエータなどの機器に組み込みます。材料の磁気特性に加え,基板との密着性や加工・着磁の方法もデバイスの設計と結び付けて考えます。
- 厚膜磁石
- マイクロアクチュエータ
- MEMS
レーザ技術とめっき技術。二つのアプローチから磁性材料をつくり,測り,デバイスに活かします。
材料の作製方法と,求める磁気特性や用途を行き来しながら研究を進めます。
PLD法を中心に厚膜磁石の成膜条件や微細構造を制御し,マイクロデバイスに必要な磁気特性・加工方法を探ります。
厚膜磁石をマイクロアクチュエータなどの機器に組み込みます。材料の磁気特性に加え,基板との密着性や加工・着磁の方法もデバイスの設計と結び付けて考えます。
PLD法でNd–Fe–B系やFe–Pt系の磁石膜を作製します。レーザ条件やターゲット組成を調整し,膜の厚さ,微細構造,磁気特性を制御します。
レーザによる加工やLIFT法による磁性膜の転写,マイクロ着磁を検討します。小さな磁石を,狙った場所で使える形につなげる研究です。
計算による材料探索と成膜方法の工夫を通じて,材料の組成や構造と磁気特性の関係を調べます。
電解・無電解めっきの条件を工夫し,軟磁性から永久磁石まで,多様な磁性膜を作製します。高周波での利用や新しい基板への成膜を見据えています。
Fe–Ni系などの軟磁性膜や薄帯をめっきで作製します。膜厚,組成や異方性を調整し,高周波駆動で重要になる透磁率と損失を評価します。
Fe–PtやCo–Ptなどの磁石膜を湿式プロセスで作製し,厚膜化や熱処理条件を検討します。小型磁石に必要な保磁力と膜の使いやすさを両立させます。
ゲル電解質や深共晶溶媒,無電解めっき法を用い,成膜できる材料や基板の選択肢を広げます。膜の形成過程と磁気特性をあわせて調べます。
磁性材料の設計や応用を,実験と計算の両面から広げてきました。項目をタップすると概要を読めます。
Nd–Fe–B系磁石について,微細構造と保磁力の関係,着磁・減磁の挙動を計算機で調べてきました。
硬磁性相と軟磁性相の組み合わせや形,磁歪材料の微細構造が特性に与える影響を検討してきました。
Nd–Fe–B系磁石膜の配向や,短時間の熱処理を用いたナノコンポジット薄帯の特性改善を研究してきました。
軟磁性コアの作製方法や,無電極ランプのコア・回路・形状と発光特性の関係も研究対象としてきました。
詳しい内容は関連する発表論文をご覧ください。
両グループで材料を作製し,磁気特性・構造・形態を測り,計算機解析も用いて結果を考えます。その往復から,材料設計とデバイスへの応用を進めています。
磁性技術で,未来をひらく。
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